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氮化硅陶瓷球的研磨抛光原因主要是运用微小的磨料颗粒产生的动能或化学作用，在软质抛光工具或化学液、电/磁场等辅助作用下，从而达到对陶瓷球坯表面层进行抛光，获得光滑或超光滑的陶瓷球表面。
氮化硅陶瓷球的表面能低，磨料和研磨介质在陶瓷球表面的附着性不强，这也是影响碳化硅陶瓷球抛光效率、表面粗糙度和研磨介质和磨料附着性差批直径变动量的原因。由于低密度的原因导致氮化硅陶瓷球在研磨盘沟道中自转性较差，也会影响到陶瓷球的加工精度特别是球形误差。
前面我们已经为大家讲了磁流体和化学机械两种用于氮化硅陶瓷球的抛光工艺，今天我们接着来看另外的两种抛光工艺。他们分别是超声振动辅助抛光和集群磁流变抛光。
超声波震动辅助抛光(UVP)
超声波震动辅助抛光英文名称为：Ultrasonic Vibration Aided Polishing。它主要是使抛光工具产生超声频率振动，从而达到抛光的效果。它是一种机械加工与超声震动相互作用的加工方法。这种抛光的优点主要是其在粗研阶段比传统方式提高了2~3倍的速度。如果我们将前篇文章中提到的磁流变抛光技术与超声波抛光技术相结合，对氮化硅陶瓷球进行抛光，材料去除率高于无超声振动时的去除率，加超声振动抛光陶瓷滚子1h后的表面Ra值可以从0.260 μm降为0.025 μm。
集群磁流变抛光
为了进一步实现氮化硅陶瓷球的精密抛光加工效率，由广东工业大学阎秋生教授团队创新研发的集群磁流变抛光陶瓷球工艺，将多个小磁性体有规则地排列在非磁性体材质的上下抛光盘的背部。当向抛光盘里面注入磁流变抛光液时，会在磁极上方形成集群磁流变效应抛光垫，用上下抛光盘表面所形成的集群磁流变效应抛光垫包覆陶瓷球并对其进行抛光。
集群磁流变抛光陶瓷球的机构原理图
在加工时，因为磁流变抛光垫一直包覆着陶瓷球，将刚性接触变成柔性接触，大大减少了研磨冲击及发热产生的次生变形。具有抛光效果好、效率高且不产生亚表面损伤等优点，可以在保证表面质量和形状精度的同时大大提高氮化硅陶瓷球的抛光效率。
本次对氮化硅陶瓷球抛光的有关工艺就为您先介绍到这里，接下来我们还会介绍一些氮化硅陶瓷异形结构件的加工工艺，我们将不定期的在本网站内更新。如果您还有氮化硅陶瓷加工的业务，欢迎您拨打我们的洽谈热线：13412856568。
